MÄRZ AP-Batch-Serie

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Überblick

Die Plasmabehandlungssysteme der AP-Serie eignen sich für ein breites Anwendungsspektrum, darunter Plasmareinigung, Oberflächenaktivierung und Haftungsverbesserung. Diese Systeme dienen Branchen wie der Halbleiterfertigung, der Verpackung und Montage von Mikroelektronik sowie der Produktion medizinischer und biowissenschaftlicher Geräte. Die AP-Serie umfasst vier Batch-Plasmaverarbeitungssysteme und bietet kleine, mittlere und große Vakuumkammeroptionen, um Kundenanforderungen von Forschungs- und Entwicklungsumgebungen bis hin zu verschiedenen Produktionsstufen gerecht zu werden.

Merkmale und Vorteile von Plasmabehandlungssystemen

● SPS-Steuerung mit Touchscreen-Schnittstelle bietet eine intuitive grafische Anzeige und Echtzeit-Prozessüberwachung

● Das flexible Regaldesign ermöglicht die Verarbeitung verschiedener Teileträger im direkten oder nachgeschalteten Plasmamodus

● 13,56 MHz HF-Generator mit automatischer Impedanzanpassung sorgt für unübertroffene Prozessreproduzierbarkeit

● Ein proprietäres Software-Steuerungssystem generiert Prozess- und Produktionsdaten für die statistische Prozesskontrolle (SPC).

● Batch-Betrieb; Jede Einheit ist vollständig in sich geschlossen und benötigt nur minimale Grundfläche

● Pumpe, Kammer, Steuerelektronik und 13,56-MHz-HF-Generator sind alle in einem einzigen Gehäuse untergebracht

Modelle und Konfigurationen von Plasmabehandlungssystemen

Tisch-Plasmabehandlungssysteme AP-600 und AP-300:Bei den Plasmabehandlungssystemen AP-300 und AP-600 handelt es sich um völlig eigenständige Tischgeräte, die nur wenig Platz auf der Werkbank benötigen. Das Systemchassis beherbergt die Plasmakammer, die Steuerelektronik, einen 13,56-MHz-HF-Generator und ein automatisches Kammeranpassungsnetzwerk (nur die Vakuumpumpe befindet sich extern). Der Wartungszugang erfolgt über verriegelte Türen oder abnehmbare Paneele. Die Plasmakammer unterstützt bis zu sieben abnehmbare und verstellbare, angetriebene oder geerdete Regale zur Aufnahme verschiedener Teile, Baugruppen und Träger, einschließlich Magazine, Tabletts und Wafer-Boote. Das Vakuum-Plasmaverarbeitungssystem eignet sich für ein breites Spektrum an Prozessgasen, darunter Argon, Sauerstoff, Wasserstoff, Helium und fluorierte Gase. Beide Modelle sind standardmäßig mit zwei (2) Massendurchflussreglern für eine optimale Gaskontrolle ausgestattet, wobei zwei (2) zusätzliche Einheiten optional erhältlich sind (insgesamt bis zu vier). Praktische Versorgungsanschlüsse erleichtern die regelmäßige Kalibrierung, die während Validierungsprozessen erforderlich ist.

AP-1000 Plasmaverarbeitungssystem:Die AP-1000-Plattform ermöglicht einen vollständigen Zugriff von vorne und erleichtert so die einfache Bedienung und Wartung aller internen Komponenten. Zur einfachen Entnahme ist die Pumpe auf Rollen montiert. Die Plasmakammer besteht aus 11-Gauge-Edelstahl mit Aluminiumbefestigungen und gewährleistet so eine außergewöhnliche Haltbarkeit. Die Kammer verfügt über mehrere herausnehmbare und verstellbare Regale zur Aufnahme einer Vielzahl von Teileträgern, darunter Magazine, Tabletts, Wafer und Waferschiffchen. Ausgestattet mit optionalen HTP-Regalen (High Throughput) kombiniert das Plasmaverarbeitungssystem AP-1000 die Zuverlässigkeit und Prozessqualität der AP-1000-Plattform mit den bewährten Vorteilen des einzigartigen Regaldesigns von Nordson MARCH. Der AP-1000 HTP optimiert die Nutzung reaktiver Ionen im HF-Plasma, verbessert die Verarbeitungsgleichmäßigkeit und verkürzt gleichzeitig die Zykluszeiten. Das AP-1000 HTP-System unterstützt eine Reihe von Prozessgasen wie Argon, Wasserstoff und Helium. Es ist standardmäßig mit vier Gasmassendurchflussreglern ausgestattet, um eine optimale Gaskontrolle zu gewährleisten. Schlitzmagazine sind vertikal innerhalb der Kammer positioniert.

Darüber hinaus können Schlitzmagazine vertikal im Patronenlager platziert werden. Normalerweise fasst jedes Magazin mindestens 20 Leadframes. Die Plasmakammer des AP-1000 bietet je nach Magazingröße Platz für bis zu 12 Magazine.