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Die MYS10-Serie ist ein vollautomatisches Inline-Plasmaverarbeitungssystem, das für Anwendungen in Branchen wie Halbleiter, Elektronik, SMT, Optoelektronik und Medizintechnik entwickelt wurde.
• Argon-Plasmasystem unter Atmosphärendruck
• 100 mm breite Inline-Batch-Plasmaverarbeitung; bietet eine 2–5-mal höhere Effizienz und über 30 % niedrigere Betriebskosten im Vergleich zu herkömmlichen Methoden
• 100 % neutrales Plasma; sicher und schonend für empfindliche elektronische Komponenten – erzeugt keinen Plasmabeschuss, statische Elektrizität, Funken, Lichtbögen, Staub, hohe Hitze, Oberflächenwellen oder UV-Strahlung und gewährleistet so keine Schäden an den Produkten
• Kompakte Plasmaplattform mit hoher Flexibilität und Kompatibilität
• Vielseitige chemische Verfahren: O2-Verfahren zur Entfernung organischer Verunreinigungen; H2-Verfahren zur Entfernung von Metalloxiden und Aktivierung von Produktoberflächen
• Keine Bildung von Partikeln oder flüssigen Verunreinigungen
| Grundlegende Spezifikationen | MYS10 |
| Leistungsanforderungen | Wechselstrom 200–240 V, 4,4 kW, 20 A, 50/60 Hz |
| Luftdruckanforderungen | 90 psi (6 bar) |
| Abmessungen | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Gewicht | 800 kg |
| Zertifizierungsstandards | CE, SEMI S2 |
| Positionierungsgenauigkeit | XY: ±30 µm bei 3σ; Z: ±10 µm bei 3σ |
| Wiederholbarkeit der XYZ-Achse | XY: ±15 µm bei 3σ; Z: ±5 µm bei 3σ |
| Höchstgeschwindigkeit | 1000 mm/s (XY) |
| Beschleunigung | 1,0g |
| Antriebssystem | AC-Servo |
| Spezifikationen der Arbeitsplattform | |
| Spurtyp | Gürtel |
| Tragfähigkeit der Schiene | 3 kg |
| Substratdickenbereich (ohne Träger) | 0,5–6 mm |
| Z-Achsen-Verfahrweg | 100 mm |
| Max. Bauteilhöhe (Oberseite) | 26 mm |
| Max. Bauteilhöhe (Unterseite) | 23 mm |
| Kommunikationsprotokoll | SMEMA |
| Arbeitsbereich | |
| Plasmabehandlungsbereich (B×T) | 350–475 mm |
| Wasserkontaktwinkel (WCA) nach Plasmabehandlung | WCA < 10° (Siliziumwafer) WCA < 20° (nichtmetallisch) |
| Plasmabehandlungsmethode | O2-Verfahren zur Entfernung organischer Verunreinigungen H2-Verfahren zur Metalloxidentfernung |
| Anforderungen an das Plasmasystem | |
| HF-Leistung | 600 W bei 27,12 MHz |
| Hauptplasmagas | Argon |
| Prozessgas | O2, N2 oder H2 |
| Druckbereich der Gasversorgung | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adresse
5. Etage, Gebäude 2, Nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Stadt Chang'an, Dongguan, Provinz Guangdong, China.
Tel
